|
晶華石英光電股份有限公司 
公司簡介：
晶華石英光電股份有限公司，于1997年成立，爲國內第一家生産石英晶體元件之製造商，也是第一家自行設計並生産供應光學低通濾波晶片的廠商。産品範圍涵蓋CCD、CMOS所使用之OLPF(光學低通濾波器)－應用於數位相機、手機和監視器等, 也涵蓋石英震蕩器之電子級晶棒材料(應用於消費性、通信及資訊産品)及光通訊鍍膜光學元件。
本公司除了專注於光學元件的研發與生産，也是臺灣第一家引進離子輔助電子束膜系統設備及鍍膜技術的廠家，爲光通訊精密鍍膜技術之指標。本公司經營團隊結合了光學界、光學鍍膜界與石英加工技術之精英人才，一向以技術爲本位提供優質產品與服務，深獲國內外業界各廠商的好評。
2000年公司在無錫建廠，取名 晶華光電(無錫)有限公司。登記資本額1000萬美元,實收資本額796.6萬美元,總投資金額1991萬美元。土地總面積30,292平方米。建物面積，長晶廠3,700平方米，光學廠5,869平方米，辦公樓1,250平方米。
産品主要分爲二大類，一是人工水晶，包含電子設備使用之電子級晶棒以及光學用途之光學晶棒。一是光學晶片，範圍涵蓋多種光學元件，包含了數碼相機、監控用攝像機、電腦攝像頭等各種影像輸入設備所使用之光學低通濾波器(OLPF)及紅外截止濾光片(IR-Cut Filter)，以及DWDM、CWDM、Edge Filter等應用於光通訊之光學元件，及應用於DVD、數位投影機、背投電視等多種設備所使用之光學元件及其它專業鍍膜之光學元件。
關鍵技術來源：
 石英晶體材料:
晶華光電之長晶技術是由日本希華株式會社(原名電株式會社)技術轉移而得。
公司相關歷史沿革：
1995年 開發光學低通濾波元件，並取得臺灣專利權第359369號
1997年 設立韋晶科技－臺灣廠
1998年 引進德國離子輔助電子束光學鍍膜機
1999年 開發光通訊元件，高密度波長多工器
2000年 設立晶華光電－無錫廠(“晶華光電無錫有限公司”)
2001年 通過ISO-9001認證
2003年 變更臺灣公司名稱爲“晶華石英光電股份有限公司”
2004年 成立晶華光電駐深圳辦事處
2005年 通過ISO-14000認證 |
